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i 线光刻镜头是多片消色差成像系统:冕牌 Y(低 nd 高阿贝正透镜)+ 火石 Y(高 nd 低阿贝负透镜)配对,校正 365nm 附近色差、球差;材料本身折射率均匀性 Δn 直接决定成像波前误差;如果玻璃内部折射率波动大,曝光图形会畸变、分辨率下降。
普通光学玻璃:紫外杂质多,365nm 吸收大;紫外照射产生色心(日晒黑化),长时间曝光透光衰减;退火应力大,折射率不均匀。
i 线 Y 系列:高纯原料熔炼,去除紫外吸收金属离子;特殊配方抑制紫外色心生成;长时间精密退火消除内应力,保证整块毛坯折射率高度一致。
高纯原料,铂金坩埚熔炼,避免金属污染;
二次重熔搅拌工艺,消除条纹、气泡;
超长周期精密退火,缓慢释放内应力,实现超高折射率均匀性;
每块毛坯干涉仪检测 Δn 均匀性、双折射、日晒性能,出具检测报告。
用于 i 线应用的高均匀性光学玻璃具有优异的内部透射率,并*大限度地减少了日光化(由于紫外光引起的着色),从而产生了用于半导体制造设备(步进机)和相关设备(用于照明等)的光学均匀玻璃。 特征: 01内部透射率(τ) 玻璃的透明度由光谱透射率 (τ) 表示,该透射率不包括表面反射损耗,图中显示了 365 nm 波长处的内部透射率保证值。然而,样品厚度为 10 mm。 02太阳能化 日光化程度可通过超高压汞灯照射后光谱透射率的降低来表示,照射波长对应于照射前光谱透射率为 80% 的波长。详细的测量方法和条件请参考“日本光学玻璃制造商协会标准(JOGIS)"。 03光学均匀性 我们使用氦氖激光干涉仪测量平行板玻璃的局部折射率变化 Δn 来保证其均匀性。Δn 的保证值可能因玻璃类型、尺寸和形状而异,因此对于直径小于等于 160φ、210φ 和 260φ 的玻璃,我们会分别标明其保证值。如果交付的玻璃厚度小于 25mm,我们将以 25mm 或更厚的临时厚度进行测量并保证其均匀性。我们还可以满足比标准值更严格的规格要求,欢迎随时联系我们。 04批次内折射率的变化 同一批次、相同退火处理后镍含量的偏差规格**到小数点后第五位。例如:±1 (×10⁻⁵) 05性能容差 由于其特殊规格,折射率 (ni) 以高于目录值的折射率为基准,并在此基础上加上 ±20 的公差,**到小数点后第五位。例如:+20±20
i 线 = 高压汞灯 365nm 紫外谱线;OHARA i 线 Y 系列是专门为半导体 i 线步进光刻机(Stepper)开发的高均匀光学玻璃,后缀 Y = i 线高均匀专用版本,同基材普通 S 系列≠i 线级,不能替代。搭配前面抛光方案:抛光推荐 清透精华液™-Z Z-08(镧系)/ Z-05(冕牌) 运用场景 半导体 i 线光刻(核心) i 线步进光刻机(Stepper)投影物镜镜片(*主要); i 线光刻机照明系统:集光镜、准直镜、场镜、复眼透镜组件; i 线掩膜检查设备、晶圆检测光学系统。 其他 365nm 紫外精密光学 大尺寸紫外曝光机镜头(PCB、面板、MEMS 光刻); 紫外光谱仪、紫外干涉计量光学元件; 紫外成像系统、荧光检测光学。
i 线 = 高压汞灯 365nm 紫外谱线;OHARA i 线 Y 系列是专门为半导体 i 线步进光刻机(Stepper)开发的高均匀光学玻璃,后缀 Y = i 线高均匀专用版本,同基材普通 S 系列≠i 线级,不能替代。搭配前面抛光方案:抛光推荐 清透精华液™-Z Z-08(镧系)/ Z-05(冕牌)
i 线步进光刻机(Stepper)投影物镜镜片(*主要);
i 线光刻机照明系统:集光镜、准直镜、场镜、复眼透镜组件;
i 线掩膜检查设备、晶圆检测光学系统。
大尺寸紫外曝光机镜头(PCB、面板、MEMS 光刻);
紫外光谱仪、紫外干涉计量光学元件;
紫外成像系统、荧光检测光学。