现货！ULVAC爱发科 LR421-T 多级罗茨型干泵
在半导体制造、平板显示、光伏镀膜等**工业领域，真空系统的洁净度与排气效率直接决定了工艺良率和生产产能。传统油润滑真空泵存在的油雾污染、维护频繁等问题，一直是制约产线稳定运行的痛点。日本ULVAC爱发科推出的LR421-T多级罗茨型干式真空泵，正是针对这一需求打造的高效洁净真空解决方案。
一、产品定位
LR421-T是ULVAC LR系列多级罗茨干泵中的主力型号，专为PVD（物**相沉积）工艺、负载锁室（Load Lock）快速排气等场景设计。其核心优势在于低温区域均热化技术——通过铝合金材质与特殊结构设计，使泵体内部温度分布极其均匀，可让工艺废气以气态形式排出，避免可凝性物质在泵内凝结沉积，从而保障长期稳定的排气效率。
二、核心技术特点
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洁净无油运行：泵腔内完全不使用润滑油，从根源上杜绝油蒸气反流污染，满足半导体级洁净度要求。
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氦气密封结构：搭载屏蔽电动机形成全密闭结构，无轴封泄漏风险，运行**可靠。
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瞬停保护：具备1000ms以内的瞬停对策，在电网波动时可有效保护泵体不受损伤。
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优异耐腐蚀性：主要零部件采用表面硬度高、耐腐蚀性强的特殊表面处理工艺，降低腐蚀性气体对泵内部的侵蚀。
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智能通信功能：支持读取泵运转状态数据、警告/报警履历，配合专用软件可实现远程集中监控，便于预测性维护。
三、关键性能参数（LR421-T）
四、典型应用场景
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PVD成膜装置：溅射镀膜、蒸镀等工艺腔体抽真空，无油洁净保障膜层质量。
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负载锁室（Load Lock）快速排气：大幅缩短备料/下料室的排气时间，直接提升产线产能。
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辅助排气：作为涡轮分子泵、机械增压泵的前级辅助排气泵，构建多级真空系统。
五、选型建议
LR系列专为PVD及负载锁室等低温工艺优化，若工艺涉及CVD、刻蚀等高温且产生大量升华性副产物的场景，建议优先考虑ULVAC HR系列螺杆型干泵。此外，LR421-T需配套冷却水与氮气吹扫系统，安装前需确认现场公用工程条件。
ULVAC爱发科LR421-T凭借其均热化设计、洁净无油、耐腐蚀及智能化监控等特性，为半导体、显示面板等行业提供了兼顾高效排气与长期稳定性的真空解决方案，是提升产线良率与产能的可靠选择。
