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ULVAC 爱发科多级罗茨型干泵 RDA-501H

ULVAC 爱发科多级罗茨型干泵 RDA-501H,该产品为爱发科 RDA 系列主力干式真空设备,采用六级多级罗茨串联排气结构,依托三叶转子间隙式旋转完成气体输送,属于无油干式真空泵,专为化工、半导体、镀膜、精密分析等需要洁净真空环境的工况打造,兼顾高抽速、紧凑体积与稳定的宽压力区间运行能力,是替代传统油旋片泵的优选升级方案。

核心特点

RDA-501H 全程无油运行,从根源消除真空油返流、油雾污染问题,保障真空腔体洁净度,避免工艺产品被油污污染。泵体内部无滑动摩擦部件,转子依靠微小间隙运转,机械损耗低,整机使用寿命更长,降低停机检修频次。设备支持从大气压直抽至高真空区间,全压力范围稳定运行,无需额外配置前级泵,简化整套真空系统布局。具备优异的水蒸气耐受能力,*大水汽吸入量可达 300g/h,可适配含水汽工艺工况;采用空冷结构,无需外接冷却水,现场管路布置更简单。电源兼容性强,单台机型同时适配单相、三相供电,适配国内不同车间供电条件;内置消音结构,低振动低噪音,自带运行计时表,方便运维人员管控保养周期,整机符合 RoHS 环保标准。

核心参数(主流型号速览)

项目 参数
产品型号 RDA-501H
有效排气速度 500L/min(50Hz/60Hz)
极限压力(F.A 关闭) ≤8.0×10⁻²Pa
极限压力(F.A 开启) ≤6.0Pa
电机功率 720W
吸排气接口 KF-25
整机重量 38kg
外形尺寸 180(W)×520(L)×377(H)mm
允许环境温度 5~40℃
*大水汽吸入量 300g/h
供电规格 单相 100~115V/200~240V;三相 200~240V

典型应用

1. 半导体与 FPD 行业:薄膜沉积、蚀刻工艺配套,涡轮分子泵 TMP 前级真空泵;
2. 真空镀膜行业:光学镀膜、溅射、蒸镀设备洁净抽真空;
3. 分析检测设备:氦质谱检漏仪、质谱仪器、电子显微镜真空源;
4. 化工领域:气体回收、真空脱气、真空干燥、小型真空蒸馏;
5. 精密装备:实验室真空装置、真空包装、各类工艺设备集成内置真空单元。

选型对比

同系列 RDA-281H 与 RDA-501H 均为六级多级罗茨干泵,基础结构一致。RDA-281H 抽速偏小,适合小腔体、低流量分析仪器、小型检漏设备;RDA-501H 拥有 500L/min 大抽速,在腔体容积更大、排气量需求更高、水汽负荷较重的场景更具优势。对比隔膜干泵,RDA-501H 抽速更大、极限真空更高,适合中大型工艺真空;对比螺杆干泵,RDA-501H 体积更小巧、重量轻,更适合设备内置集成,不过处理大量粉尘、强腐蚀性气体工况时,需配套前置过滤、防腐气路组件。该泵为室内专用机型,不建议直接用于室外或大量粉尘、强腐蚀气体直抽场景,选型时可根据工艺气体成分、水汽量、腔体大小做配套方案调整。