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案例一：先进逻辑芯片晶圆代工量产（300mm） 设备配置：Episode™ UL 12 腔体混配机型，介质刻蚀腔体、硅刻蚀腔体组合部署。 工况简述：用于先进逻辑芯片多层工艺加工，完成浅沟槽隔离 STI 刻蚀...
Episode™ UL 是面向逻辑芯片、存储芯片量产的新一代 300mm 晶圆干法等离子蚀刻平台，采用对置式双列集群架构，腔体数量支持 4‑12 腔灵活选配，兼顾工艺性能、设备产能与洁净室空间利用率，广泛用于先...
螺杆型干式真空泵
回转翼型油回转泵的说明。
干泵1段式和2段式的区别
迄今未听说过的真空知识
我们精密电子公司的主要产品包括“干式真空泵”、“废气处理系统”和“化学机械抛光（CMP）系统”。这些产品广泛应用于国内外半导体工厂。
高精度、高可靠性的制造设备有助于提高半导体制造的生产效率。
半导体制造设备的特点
节能紧凑的设计。可靠的全球支持和 丰富的产品线。
干式真空泵是一种非接触式真空泵，无需使用油或液体进行密封。它能提供洁净的真空环境，避免水或油的回流或扩散。此外，它操作简便，无需定期维护，例如加注或更换水或油。
肉眼不可见的微观层面。 纳米尺度领域备受推崇的平面化技术。
干式真空泵创造了半导体制造所必需的真空空间。
支持先进产业和全球环境的“废气处理设备"。
CMP 机器拥有quan球di二大的市场fen额，能够以ji高的精度将表面抛光至wan美平整。
二氧化碳注入泵/压缩机 （用于碳捕获与封存（CCS）系统）
在半导体、精密制造、洁净化工与医药**等工业领域，BARA荏原干式真空泵是保障工艺洁净、生产稳定的核心装备。凭借成熟的干式真空技术、稳定的运行性能与多样化机型适配能力，成为真空制程的设备。本文结合...
半导体真空泵选型参数核对清单
不同半导体制造阶段对真空泵性能的具体要求差异
半导体真空泵主要用于创造和维持真空环境，贯穿半导体制造全流程，是决定工艺精度和产品良率的核心部件 。
单级螺杆干式真空泵作为无油干式真空设备的主流机型，相比传统油泵、水环泵，在洁净度、工况适配性、长期运行成本等方面具备突出的核心优势，适配工业的严苛真空需求。